簡要規格
改革光學設計工作流程，讓您有更多時間高效率工作，將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合，最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程，迅速分析結構和熱負載對設計的影響。
實現準時、符合預算的光學設計週期
探索實現創新構想的新方式，打造出能為世界帶來深遠影響的產品。OpticStudio 在光學產業、市場領導級公司與全球各大學皆被認可為光學、照明和雷射系統唯一設計標準。
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分析、最佳化、調整公差
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全球使用者群
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領先業界的標準
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提供內建 STOP 分析
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領先業界的光學系統設計 -
直觀、易於使用的使用者介面 -
動態 CAD 整合 (Premium)
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啟用 STAR 的 STOP 分析 (Enterprise) -
穩健、功能強大的光線追蹤 -
說明文件與報告
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支援與訓練 -
進階最佳化演算法
2024 年 7 月
最新功能
在 2024 R2 版本中，Ansys Zemax OpticStudio 提供全面的功能組合，可增強對多物理模擬的支援，以及對可製造性設計 (DfM) 真實光學系統的支援，並改善效率、速度和擴充性。
將光學設計匯出至 Speos 的改善
讓使用者透過從 Zemax 到 Speos 簡化的資料交換，以及 Speos 的序列式路徑偵測功能強化，將雜散光對系統效能造成的真實影響納入考量。
偏軸孔徑與 RSI (旋轉對稱不規則) 適用的公差運算元
根據 ISO 10110-5 繪製標準，提供四種新公差運算元，可精確容許表面形狀公差 3/A(B/C)，讓使用者能考慮製造與製程錯誤實際造成的影響。
FFT MTF 多線程
FT MTF 多線程使用可用的 CPU 資源，同時確保沒有 CPU 核心閒置。它會同時處理多個欄位和波長以提升速度，透過分散工作負載作業來減少整體的運算時間並提高擴充性。多線程可透過分散工作來處理增加的工作負載，使系統更具擴充性。
常見問題
獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。
Ansys Zemax OpticStudio 是在複雜、高精密光學系統內設計元件和子組件的解決方案。這樣的系統能因應數個成長快速的產業中的各種應用，從 AR/VR 到光學雷達、醫學造影、資料通訊等。
主要特色
- 光線追蹤
- 鏡頭設計
- 公差分析
- 最佳化
- 互通性
- 多重物理量模擬
- 方便易用的介面
Ansys Zemax OpticStudio 授權
Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具，可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前，先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計，有助於節省開發光學系統的時間與資源。
若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析，需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程，產生關鍵設計洞見，節省可觀時間，並帶來全新的系統分析可能性。
產品套件
| OPTICS | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
|---|---|---|---|
| Ansys Optics Launcher | 包含 | 包含 | 包含 |
| 序列式光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 多組態系統建模 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 每個授權的平行應用程式執行個體數量 | 4 | 8 | 8 |
| 極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 設計範本與廠商鏡片目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 材料目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 塗層目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 完善的最佳化方法 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 敏感度公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線瞄準 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 非球面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 自由曲面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 繞射光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 複合表面 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 影像品質分析 (幾何和繞射) | 包含 | 包含 | 包含 |
| 高斯光束 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 物理光學傳播 | 包含 | 包含 | 包含 |
| Ghost Focus Generator | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線分割與散射 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 重要性取樣 | 包含 | 包含 | 包含 |
| STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD) | 包含 | ||
| STAR 效能分析 | 包含 | ||
| 使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 | 包含 | 包含 | |
| 運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos | 包含 | 包含 | 包含 |
| 動態與靜態交換，搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) | 包含 | 包含 | |
| 匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL | 包含 | 包含 | 包含 |
| 用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link | 包含 | 包含 |
OPTICSTUDIO 資源與活動
