簡要規格
改革光學設計工作流程，讓您有更多時間高效率工作，將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合，最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程，迅速分析結構和熱負載對設計的影響。
實現準時、符合預算的光學設計週期
探索實現創新構想的新方式，打造出能為世界帶來深遠影響的產品。OpticStudio 在光學產業、市場領導級公司與全球各大學皆被認可為光學、照明和雷射系統唯一設計標準。
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分析、最佳化、調整公差
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全球使用者群
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領先業界的標準
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提供內建 STOP 分析
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領先業界的光學系統設計 -
直觀、易於使用的使用者介面 -
動態 CAD 整合 (Premium)
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啟用 STAR 的 STOP 分析 (Enterprise) -
穩健、功能強大的光線追蹤 -
說明文件與報告
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支援與訓練 -
進階最佳化演算法
JANUARY 2025
What's New
The latest Ansys Zemax OpticStudio release empowers optical system designers to create exceptional, cost-effective optical designs through multiphysics workflows, design for manufacturing, and pervasive Insights for informed decision-making across the product lifecycle.
Unified Multiphysics - Stress Birefringence in STAR
Ansys Zemax OpticStudio’s STAR Stress Birefringence tool evaluates mechanical stress effects on optical materials, offering stress dataset imports, off-axis field support, and detailed visualization. It optimizes designs, enhances manufacturing reliability, and ensures performance in industries like automotive, aerospace, defense, and consumer electronics under diverse conditions.
Design for Manufacture - Mechanical Pivot Points
The Mechanical Pivot Point (MPVT) operand simplifies tolerance simulations by defining and visualizing mechanical pivot points in optical systems. This feature addresses the time-consuming and error-prone manual steps to set up optomechanical tolerance simulations. Key capabilities include one-click Monte Carlo file generation and visualization tools.
Pervasive Insights - Dark Theme
This new dark theme reflects Ansys Zemax OpticStudio’s focus on user-centric design, providing improved comfort, enhanced productivity, and versatile usability. Offering an interface for individual preferences and working environments with a dark color palette optimized for low-light conditions, reducing eye strain and conserving battery life on portable devices.
常見問題
獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。
Ansys Zemax OpticStudio 是在複雜、高精密光學系統內設計元件和子組件的解決方案。這樣的系統能因應數個成長快速的產業中的各種應用，從 AR/VR 到光學雷達、醫學造影、資料通訊等。
主要特色
- 光線追蹤
- 鏡頭設計
- 公差分析
- 最佳化
- 互通性
- 多重物理量模擬
- 方便易用的介面
Ansys Zemax OpticStudio 授權
Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具，可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前，先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計，有助於節省開發光學系統的時間與資源。
若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析，需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程，產生關鍵設計洞見，節省可觀時間，並帶來全新的系統分析可能性。
產品套件
| OPTICS | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
|---|---|---|---|
| Ansys Optics Launcher | 包含 | 包含 | 包含 |
| 序列式光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 多組態系統建模 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 每個授權的平行應用程式執行個體數量 | 4 | 8 | 8 |
| 極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 設計範本與廠商鏡片目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 材料目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 塗層目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 完善的最佳化方法 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 敏感度公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線瞄準 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 非球面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 自由曲面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 繞射光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 複合表面 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 影像品質分析 (幾何和繞射) | 包含 | 包含 | 包含 |
| 高斯光束 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 物理光學傳播 | 包含 | 包含 | 包含 |
| Ghost Focus Generator | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線分割與散射 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 重要性取樣 | 包含 | 包含 | 包含 |
| STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD) | 包含 | ||
| STAR 效能分析 | 包含 | ||
| 使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 | 包含 | 包含 | |
| 運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos | 包含 | 包含 | 包含 |
| 動態與靜態交換，搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) | 包含 | 包含 | |
| 匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL | 包含 | 包含 | 包含 |
| 用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link | 包含 | 包含 |
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