簡要規格
改革光學設計工作流程,讓您有更多時間高效率工作,將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合,最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程,迅速分析結構和熱負載對設計的影響。
獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。為多種應用設計複雜的光學系統,並具備包括結構與熱分析在內的進階功能。
探索實現創新構想的新方式,打造出能為世界帶來深遠影響的產品。OpticStudio 在光學產業、市場領導級公司與全球各大學皆被認可為光學、照明和雷射系統唯一設計標準。
改革光學設計工作流程,讓您有更多時間高效率工作,將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合,最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程,迅速分析結構和熱負載對設計的影響。
2025 年 1 月
最新版本的 Ansys Zemax OpticStudio 讓光學系統設計師能夠透過多重物理量工作流程、可製造性設計和普遍性深入見解,在產品生命週期的各個階段做出明智決策,從而建立卓越且具成本效益的光學設計。
Ansys Zemax OpticStudio 的 STAR 應力光學雙折射工具可評估機械應力對光學材料的影響,提供應力資料集匯入、偏軸場支援及詳細的視覺化功能。該工具可最佳化設計、提升製造可靠性,並確保其在汽車、航太、國防和消費性電子等產業的各種環境條件下均能穩定運行。
Mechanical 樞紐點 (MPVT) 運算元簡化了公差模擬,能夠在光學系統中定義並視覺化 Mechanical 樞紐點。此功能解決了設定光機公差模擬時,耗時且容易出錯的手動步驟。主要功能包括一鍵產生蒙地卡羅檔案及視覺化工具。
全新的深色主題反映出 Ansys Zemax OpticStudio 對使用者導向設計的重視,提供更舒適的體驗、提升生產力,以及多功能使用性。介面設計能符合個人偏好與不同工作環境,使用深色調色板,針對低光環境進行最佳化,有助於減少眼睛疲勞並節省可攜式裝置的電池壽命。
Ansys Zemax OpticStudio 是一個光學設計軟體工具,用於構思造影、照明、雷射系統等。OpticStudio 的易用介面結合了分析、最佳化和公差工具,有助於可製造性設計。延伸的自訂選項可讓您根據需求量身打造 OpticStudio,或將您的工作自動化。整合式多重物理量工作流程可簡化結構、散熱或液體模擬結果的使用
Ansys Zemax OpticStudio 是在複雜、高精密光學系統內設計元件和子組件的解決方案。這樣的系統能因應數個成長快速的產業中的各種應用,從 AR/VR 到光學雷達、醫學造影、資料通訊等。
Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具,可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前,先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計,有助於節省開發光學系統的時間與資源。
若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析,需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程,產生關鍵設計洞見,節省可觀時間,並帶來全新的系統分析可能性。
OPTICS | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
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Ansys Optics Launcher | 包含 | 包含 | 包含 |
序列式光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
多組態系統建模 | 包含 | 包含 | 包含 |
每個授權的平行應用程式執行個體數量 | 4 | 8 | 8 |
極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
設計範本與廠商鏡片目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
材料目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
塗層目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
完善的最佳化方法 | 包含 | 包含 | 包含 |
敏感度公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
蒙地卡羅公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
射線瞄準 | 包含 | 包含 | 包含 |
非球面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
自由曲面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
繞射光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
複合表面 | 包含 | 包含 | 包含 |
影像品質分析 (幾何和繞射) | 包含 | 包含 | 包含 |
高斯光束 | 包含 | 包含 | 包含 |
物理光學傳播 | 包含 | 包含 | 包含 |
Ghost Focus Generator | 包含 | 包含 | 包含 |
射線分割與散射 | 包含 | 包含 | 包含 |
重要性取樣 | 包含 | 包含 | 包含 |
STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD) | 包含 | ||
STAR 效能分析 | 包含 | ||
使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 | 包含 | 包含 | |
運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化 | 包含 | 包含 | 包含 |
將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos | 包含 | 包含 | 包含 |
動態與靜態交換,搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬 | 包含 | 包含 | 包含 |
適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) | 包含 | 包含 | |
匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL | 包含 | 包含 | 包含 |
用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link | 包含 | 包含 |
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